现在，世界半导体工业发达国家已经使用石英坩埚。具有纯度高、耐高温、体积大、精度高、保温性好、节能、质量稳定等优点。
　　1.石英坩埚可在1450度以下使用，分为透明和不透明两种。锦州坩埚电弧法制备的半透明石英坩埚是研制大型集成电路必不可少的基础材料。
　　2.它不能接触高频。在高温下，锦州坩埚易与苛性钠和碱金属碳酸盐反应。
　　3.石英易碎，易破碎，使用时要注意。
　　4.除氢氟酸外，可用普通稀无机酸作清洗液。
　　目前，石英坩埚生产中的涂层技术已被大多数厂家采用。锦州坩埚涂层技术分为冷涂层和热涂层。其目的主要是防止硅与石英坩埚在单晶硅高温拉伸过程中发生反应，提高结晶速率。如需了解更多详情，请关注本公司。